洁净室工程主要之作用在于操控产品（如硅芯片等）所接触之大气的洁净度日及温湿度，使产品能在一个杰出之环境空间中生产、制造，此空间我们称之为洁净室。依照国际惯例，无尘净化等级主要是根据每立方米空气中粒子直径大于区分规范的粒子数量来规则。也就是说所谓无尘并非100没有一点尘埃，而是操控在一个十分微量的单位上。当然这个规范中契合尘埃规范的颗粒相关于我们常见的尘埃已经是小的微乎其微，可是关于光学结构而言，哪怕是一点点的尘埃都会产生十分大的负面影响，所以在光学结构产品的生产上，无尘是必然的要求。

每立方米将小于0.3微米粒径的微尘数量操控在3500个以下，就达到了国际无尘规范的A级。应用在芯片级生产加工的无尘规范关于尘埃的要求高于A级，这样的高标主要被应用在一些等级较高芯片生产上。微尘数量被严格操控在每立方米1000个以内，这也就是业内俗称的1K等级。

洁净室状况有以下三个：空气洁净室：已经制作完成并能够投入运用的洁净室（设备）。它具有一切有关的服务和功用。可是，在设备内没有操作人员操作的设备。静态洁净室：各种功用完备、设定安装妥当，能够依照设定运用或正在运用的洁净室（设备），可是设备内没有操作人员。动态洁净室：处于正常运用的洁净室，服务功用完善，有设备和人员；如果需求，可从事正常的工作。空气由空调箱经风管与洁净室内之空气过滤器(HEPA)进入洁净室，并由洁净室两边隔间墙板或高架地板回风。气流非直线型运动而呈不规则之乱流或涡流状况。此型式适用于洁净室等级1,000-100,000级。定义：气流以不均匀速度不平行流动、伴有回流或涡流的洁净室。原理：乱流洁净室靠送风气流不断稀释室内空气，将污染空气逐渐稀释，来实现洁净的（乱流洁净室一般设计在千级以上至30万级净化等级）。

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